Berapa batas suhu maksimum tantalum thermowell

Tantalum Thermowell berkinerja baik di berbagai lingkungan asam yang kuat karena ketahanan korosi yang sangat baik.
Dalam lingkungan asam sulfat, tantalum thermowell dapat digunakan secara stabil bahkan dengan konsentrasi asam sulfat pekat hingga 98%. Bahkan pada perebusan suhu tinggi, film oksida padat dengan cepat terbentuk pada permukaan tantalum secara efektif dapat mencegah erosi lebih lanjut dari asam sulfat dan memastikan keakuratan pengukuran suhu.
Aqua regia, sebagai asam campuran yang sangat korosif, dibuat dengan asam nitrat pekat dan asam klorida pekat dalam rasio volume 1: 3. Ini dapat melarutkan sebagian besar logam, tetapi Tantalum Thermowell dapat menahan korosi aqua regia dan secara andal memantau suhu dalam percobaan atau produksi yang melibatkan Aqua Regia.
Dalam lingkungan asam hidrofluorat, sebagian besar logam akan dikorosi dengan cepat, tetapi tantalum memiliki toleransi yang baik terhadap asam hidrofluorat. Terutama dalam proses pembuatan chip elektronik, asam hidrofluorat sering digunakan untuk etsa wafer silikon. Tantalum Thermowell dapat secara akurat mengukur suhu di lingkungan korosif ini yang mengandung asam hidrofluorat, membantu menstabilkan proses pembuatan chip.
Di bidang sintesis kimia, seperti reaksi menghasilkan asam organik dengan kemurnian tinggi, sistem reaksi sering mengandung asam konsentrasi tinggi, sangat korosif. Tantalum Thermowell, dengan resistensi asam yang sangat baik, bekerja secara stabil di lingkungan asam kuat yang kompleks, terus menerus mengumpulkan data suhu, dan memastikan kelancaran kemajuan reaksi sintesis kimia.
Jika Anda membutuhkan Tantalum Thermowell berkualitas tinggi, silakan hubungi Qiwei untuk pertanyaan lebih lanjut.